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第120章 1nm光刻机首测成功,震撼全场![1 / 4]

全员换上无尘工作服,经过三道安检进入偌大的实验室。

见到一台庞然大物,市委书记、市长、副市长等市领导同时愣住,安若素也是睫毛一颤。

安若素平时很少来鹏城大学,只有周末过来找老公,并未见过光刻机成品,此时指着大型设备激动道:“老公…这…这就是你研发的光刻机吗?”

“对。”

苏云杉向市领导介绍:“各位领导,这就是由皇甫集团和鹏城大学联合研制的HighNAEUV光刻机,机身尺寸10米x5米x4米,整机重量约150吨,按照设计要求,可以量产1nm及以上制程芯片,实验室可试产0.5nm芯片。”

哗——

全场领导大惊!

看着光刻机怔怔出神。

皇甫君昨晚来过,见过总装整机,此时再见,依然觉得震撼,光刻机通体哑光银灰,轮廓方正厚重,如同集装箱稳稳地扎在环氧地坪上。

苏云杉走近介绍:“这台设备是国内首台数值孔径0.55的HighNA极紫外光刻机,相较于国外传统0.33NAEUV光刻机,可大幅提升分辨率,打印8nm密集线条,突破芯片制造密度记录,这也是它能够突破1nm制程壁垒的核心关键。”

皇甫君母女三人、市领导、校领导跟在他身后,近距离观摩,更能直观地感受到它的精密和磅礴。

苏云杉摸着冰凉的机身继续介绍——

“整机采用一体化真空密封舱体设计,外壳是特制航空级碳化硅材质,抗形变、耐高温、耐腐蚀,表面哑光涂层经过百级无尘抛光处理,不沾微尘、极致平整,杜绝任何细微光线散射干扰。”

“设备搭载自研13.5nm波长高能脉冲等离子光源,最大功率突破350W,光源稳定性和光斑均匀性,均达到国际领先标准,彻底解决了传统EUV光源功耗高、续航短、光斑偏差的缺陷。”

苏云杉抬手指着设备核心光学区域,继续细致讲解。

“核心反射镜组为七层超高精度镀膜镜片,经过原子级抛光工艺处理,面形精度误差控制在0.05λ以内,表面粗糙度不足0.1纳米,相当于单个原子直径级别,可实现极致精准的光线反射和聚焦。”

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